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硅片回收介绍硅薄膜电池镀膜过程:
48 片的炉子,炉子里面有铝板(作为电极),每两片玻璃板夹住一片金属板,有一个电极腔,将玻璃片放入电极后,将电极腔关上,但是电极腔不是真空绝缘的,而是透气的,先将电极腔置入预热室,升温 2.5 小时,使温度达到沉积温度。然后将电极腔从预热室中取出,在几分钟内转移到沉积室中,再进行沉积,沉积时间为 5 小时,沉积完后再转移到 降温室中降温 2.5 小时。因此,样品有两次在高温下暴露大气的过程,但因为时间较短,因此问题不大。样品尺寸为 12英尺,每片的初始效率可达到 80W,稳定效率大于 60W。效率在 5.5%。在三个真空室(升温、镀膜、降温)之间有导轨运输电极腔,在两端有上玻璃设备和卸玻璃设备。在卸玻璃设备之后又传送台,将镀膜玻璃传到下一道激光光刻工位。
d) 第二次激光切割:
此次激光光刻为切断非晶硅膜,膜面向下,激光从下方入射到样品表面,这样做的好处是可以使得激光刻蚀所留下的残渣向下落在地上。
e) 磁控溅射镀铝:
镀铝使用磁控溅射法,铝靶为圆柱形,玻璃水平放置,真空系统使用扩散泵,扩散泵使用液氮冷却,
f) 第三次激光切割:切割铝条
g) 封装:EVA+双层玻璃。可是用传统层压设备封装。
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