真空镀膜：

一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术**先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

涂层的PVD技术：

增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效的控质，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

过滤阴极弧：过滤阴极弧（FCA）配有高效的电磁过滤系统，可将离子源产生等离子体中的宏观粒子，离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为**，并且可以过滤掉大颗粒，因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。

磁控溅射：在真空环境下，通过低电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子，原子或分子的形式被弹出并沉积在基材上形成薄膜。根据使用的电力电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。

离子束DLC：碳氢气体在离子源中被离化成等离子体，在电磁场的作用下，离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整在上的电压控制，碳氢离子束被引到基材上，沉积速度与离子电流密度成正比。德耐涂层的离子束采用高电压，因而离子能量更大，使得薄膜与基片结合力很好，离子电流更大，使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积薄膜以及多层结构，工艺控制精度可达0.5微米，并可将工艺过程中的颗粒污染所带来的缺陷降至**小。

真空膜的特点：

能在金属，半导体，绝缘体甚至塑料，纸张，织物表面上沉积金属，半导体，绝缘体，不同成分比的合金，化合物及部分有机聚合物等的薄膜，其适用范围之广是其他方法无法与之比拟的；可以不同的沉积速度，不同于基板温度和不同的蒸汽分子入射角蒸镀成膜，因而可得到不同显激结构和结晶形态（单晶，多晶或非晶体等）的薄膜；

薄膜的纯度很高；

易于在线检测和控制薄膜的厚度与成分。厚度控制精度**高可达单分子层量级；

排出污染物很少且基本上没有。