| 尺寸 | φ100x40或定制尺寸 |
|---|---|
| 材质 | 纯钛 |
| 产地 | 宝鸡 |
| 规格 | 定制 |
| 粒度 | 10目 |
| 牌号 | TA1 |
| 品名 | 钛靶材 |
| 钛含量 | 0.999 |
| 用途 | 电器行业 |
| 杂质含量 | 0.0001 |
| 种类 | α钛合金 |
| 重量 | 1 |
| 标准类型 | 国标 |
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镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。
表面工程用靶材（装饰工具）多弧靶
| 品 名 | 纯度 | 密度 | 镀膜优势色 | 形状 | 常规尺寸 | 应用行业 |
| 钛铝（TiAl）合金靶 | 2N8-4N | 3.6-4.2 | 玫瑰金/咖啡色 | 圆柱形 | 直 径 60/65/95/100*30/32/40/45mm | 装 饰 / 工 具 |
| 纯铬（Cr）靶 | 2N7-4N | 7.19 | 白色/黑色 | 圆柱形 | ||
| 纯钛（Ti）靶） | 2N8-4N | 4.51 | 金黄色/枪黑色 蓝色/玫瑰红 | 圆柱形 | ||
| 纯锆（Zr）靶 | 2N5-4N | 6.5 | 金色 | 圆柱形 | ||
| 纯铝（Al））靶 | 4N-5N | 2.7 | 银色 | 圆柱形 | ||
| 纯镍（Ni）靶 | 3N-4N | 8.9 | 金属本色 | 圆柱形 | ||
| 镍钒（Ni）靶 | 3N | 8.57 | 蓝绿色 | 圆柱形 | ||
| 纯铌（Nb）靶 | 3N | 8.57 | 白色 | 圆柱形 | ||
| 纯钽（Ta）靶 | 3N5 | 16.4 | 黑色/紫色 | 圆柱形 | ||
| 纯钼（Mo）靶 | 3N5 | 10.2 | 黑色 | 圆柱形 | ||
靶材的主要性能要求
靶材的主要性能要求: 纯度 纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。 杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
