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首页 > 供应产品 > 方岛半导体 mems微纳加工 光刻加工 光刻镀膜镀金图形图形化 硅片金属化图形电路
方岛半导体 mems微纳加工 光刻加工 光刻镀膜镀金图形图形化 硅片金属化图形电路
产品: 浏览次数:1116方岛半导体 mems微纳加工 光刻加工 光刻镀膜镀金图形图形化 硅片金属化图形电路 
品牌: 方岛
材料: 硅(Si)
材质: PVDF
单价: 30.00元/片
最小起订量: 100 片
供货总量: 1000000 片
发货期限: 自买家付款之日起 10 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2022-03-26 01:52
 
详细信息
材料 硅(Si)
材质 PVDF
产地 广东
封装 SOP-8
类型 单片机
批号 12+
特性 硅片光刻微纳图形镀膜加工
形状 异形
用途 工业用
种类 元素半导体
沟道类型 N沟道
品牌 方岛半导体
型号 光刻加工
加工定制

    广州方岛半导体有限公司主要经营半导体材料和半导体加工,拥有完整的半导体生产产线,具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、测试等微纳加工能力。方岛半导体坐落于广州大学城,以广州大学城众创空间为依托,同时与北京大学、华南师范大学、中山大学、广州大学等合作研发相关技术,建立研发实验中心,促进公司技术水平更新换代。

    广州方岛半导体具备完整的镀膜光刻加工,具备硅片、氧化硅片、玻璃、蓝宝石、PI/PET柔性基材、氧化铝陶瓷、氮化铝陶瓷等基底光刻加工能力**小线路达到1μm,可加工多种金属/合金镀膜。

    镀膜基底:硅片、氧化硅片、氧化铝、氮化铝、石英玻璃、蓝宝石、PI/PET柔性基材等
    金属镀膜:Au、Ag、Cu、Al、Pt、Ni、Ti、Cr、In、W、Cu/Ni、TiW90、Zn、Mo、W、Ta 、Nb等
    非金属镀膜:Si、SiO2、Al2O3、ITO等
    镀层厚度:5nm-10000nm(高厚度为特殊材料才可加工)
    光刻基底尺寸:6英寸向下兼容

    光刻精度:1um

    镀膜基底尺寸:8英寸向下兼容

    方岛半导体同时具备深硅刻蚀加工能力,现有加工可刻蚀400um深度硅片,精度可控,工艺先进,交期可控,供货稳定。

    方岛半导体具备完整加工能力,半导体加工源头厂家,工艺先进,供货稳定,产能充足,欢迎到厂参观。方岛半导体自创立以来,已稳定为多家客户进行批量生产加工半导体材料并配合研发,主要客户有华为、海思、中科微、中兴、海康威视、华星光电、国星光电、中科院、清华大学、北京大学等。

    广州方岛半导体技术服务热线:15918881939 李工(微信同号)

    技术部电话(微信):15013319966 黄工


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广州方岛半导体有限公司提供,微纳mems加工,硅片光刻图形化镀金金属化加工,技术咨询电话(微信):15918881939 李工

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