| 产品别名 | 真空电镀设备 |
|---|---|
| 类型 | 真空镀 |
| 适用范围 | 通用 |
| 适用原料 | ABS |
| 品牌 | ** |
| 型号 | EBPVD |
| 电镀位置 | 工件表面镀膜 |
| 镀种 | 真空镀膜 |
| 加工定制 | 是 | 品牌 | ** | 型号 | EBPVD |
| 适用范围 | 应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域 | 产品别名 | 物理气相沉积 | 电镀电源 | 直流电源 |
| 电镀位置 | 工件表面镀膜 | 镀种 | 真空镀膜 | 镀膜材质 | 其他超硬功能性金属膜 |
| 镀膜原理 | 溅射镀膜 |
电子束物理气相沉积（EB-PVD）技术，是指在高真空状态下，电子束轰击并加热靶材使其蒸发，沉积材料蒸汽冷凝在基体材料商形成具有特殊结构及优良性能涂层的技术，是一种先进的涂层制备技术，主要应用于航空、航天、燃机、机械制造领域有着广泛的应用前景。
设备技术参数：
设备尺寸：9040mm×4500mm×3000mm
主真空室容积：0.5 m3
预处理室容积：0.25 m3
预处理室数量：2个
传动机构：2套（具备连续生产能力）
设备总功率：300KW
极限真空度：1.0×10－4Pa
工作时真空度：≤5.0×10－3Pa
靶材供料机构：3套（同炉次可对多种材料进行蒸发）
电子枪数量：4
