| 产品别名 | 电子束物理气相沉积炉 真空镀膜设备 溅射镀膜 EBPVD |
|---|---|
| 使用范围 | 应用于航空、航天、燃机、机械制造领域 |
| 颜色 | 白色 |
| 品牌 | 沈阳** |
| 型号 | 电子束物理气相沉积炉 真空镀膜设备 溅射镀膜 EBPVD |
| 电镀位置 | 压板式喷镀 |
| 镀种 | 金属膜、合金膜、化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜 |
| 镀膜原理 | 电子束轰击并加热靶材使其蒸发，沉积材料蒸汽冷凝在基体材料商形成具有特殊结构及优良性能涂层 |
电子束物理气相沉积（EB-PVD）技术，是指在高真空状态下，电子束轰击并加热靶材使其蒸发，沉积材料蒸汽冷凝在基体材料商形成具有特殊结构及优良性能涂层的技术，是一种先进的涂层制备技术，主要应用于航空、航天、燃机、机械制造领域有着广泛的应用前景。
设备技术参数：
设备尺寸：9040mm×4500mm×3000mm
主真空室容积：0.5 m3
预处理室容积：0.25 m3
预处理室数量：2个
传动机构：2套（具备连续生产能力）
设备总功率：300KW
极限真空度：1.0×10－4Pa
工作时真空度：≤5.0×10－3Pa
靶材供料机构：3套（同炉次可对多种材料进行蒸发）
电子枪数量：4
